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活性氧---的三个形成基理：

1.活性氧---的形成

菱镁矿石在窑炉的煅烧过程中，由于技术等原因造成矿石煅烧的温度不同，当温度达到400-600摄氏度时，其内部结构疏松，晶体间孔隙gao，氧---，氧---呈现gao的活性。

2.当煅烧温度达到750-850摄氏度时，其晶体间孔隙率下降，达到镁水泥反应的jia范围，活性适中。当煅烧温度大于900-1000摄氏度时，形成过 火氧---，其活性很低甚至没有活性。在一定活性范围内，高活性者制品---，低活性者制品差，但欠火氧---并非如此，它的活性越高，反应越激烈，放热 越集中，制品反而越差，容易开裂且强度不高。

3.活性氧---也就是具有水化能力的氧---。

氧---必须有一定的活性。活性高的氧---易与硅的氧化物反应生成---玻璃 体，但过高的活性会提高氧---的水化率，这又是对---膜的生成不利，氧---，对氧---的活性 大小应归纳考虑。

氧---的浆液对硅钢片表面的豁结性要强。这样，氧---涂布于硅钢片上枯燥后， 在强振动和摩擦后不会从钢片上脱落。 用处硅钢氧---主要用作硅钢制作过程中的高温退火阻隔剂，绝缘涂层生成剂，钢中的脱磷 剂、脱硫剂。还可用于gao档精细陶瓷、耐火增塌、特殊抛光剂，作为重质氧---用于制yao， 用于航天工业、电子工业。